Japanese Product Catalogue

5.2 希ガス

5.SG 製品

5.2 希ガス

Kr、Xe, Ne, 等の希ガスは、半導体およびメモリーチップ、宇宙、ガラスおよび絶縁ガラス、照明、研究、フラットパネルディスプレイおよびヘルスケアなどの特定の用途にとって重要なガスです。

キセノン
成分 キセノン(N45) 高純度キセノン(N50)
Xe 99.995% 99.999%
H₂O < 3 ppm < 1 ppm
O₂ < 3 ppm < 1 ppm
N₂ < 10 ppm < 3 ppm
CnHm < 2 ppm < 1 ppm
CO   < 0.1ppm
CO₂ < 0.5 ppm < 0.5 ppm
Kr < 35 ppm < 3 ppm
クリプトン
成分 クリプトン(N45) 高純度クリプトン(N50)
Kr 99.995% 99.999%
H₂O < 3 ppm < 1 ppm
O₂ < 3 ppm < 1 ppm
N₂ < 10 ppm < 3 ppm
CnHm ≤ 1 ppm < 0.5 ppm
CO   < 0.1 ppm
CO₂ < 0.2 ppm < 0.2 ppm
Xe < 35 ppm < 5 ppm
ネオン
成分 ネオン(N40) 高純度ネオン(N50)
Ne >99.99% ≥ 99.999%
O₂ < 3 ppm <1 ppm
N₂ < 15 ppm < 3 ppm
CO₂   < 0.1 ppm
H₂O < 3 ppm < 1 ppm
H₂ < 2 ppm < 0.5 ppm
THC   < 0.2 ppm
He < 80 ppm < 4 ppm